而且当年瑞星科技公司刚开始研发双工件台系统的时候也是通过外交渠道邀请过霓虹国康尼株式会社的社长来华兴科技集团公司这边访问，当时这位社长还当着何玉光等人的面说过这么一句话：“光刻机光学系统虽然很难，我相信你们能够研制出来，但工件台你们恐怕是拿不下来的，因为这个系统太复杂了。”
而且康尼精机方面也是不愿意向瑞星科技公司公司提供零部件的，更愿意卖整机。
后来瑞星科技公司也是靠着华兴科技集团公司和杨杰的关系网得到了各种技术专利和人才资源，一边紧盯着海外光刻机的技术动向一边自己埋头苦干，一开始搞出来的光刻机确实是整体性能不怎么样，但是中晶微和华越电子集团和华晶都是批量购买，而瑞星科技公司公司也是直接派出技术人员守在晶圆厂随时解决问题和收集各种数据，逐步地让自己的产品设备改进完善。
瑞星科技公司刚开始的时候并不追求光刻机在所有方面性能卓越，强调的是可靠稳定，一开始的时候得不到氟化氪和氟化氩这些激光光源就用技术已经非常成熟的汞灯光源设备结合浸入式光刻技术开始起步。
当年瑞星科技公司公司全力攻克的是沉浸式光刻机的浸液系统，并在这个系统上面掌握了大量的技术专利，这个也成了瑞星科技公司杀手锏一般的武器。
而瑞星科技公司在这个基础上也是不断地在其他关键系统上进行研发，尤其是在双工件台系统上进步非常快，这个也是得益于华兴科技集团公司自己本身在超精密数控机床技术上进展非常快，不仅做出了满足90纳米光刻需要的工件台，针对28至65纳米光刻配套的双工件台也也是搞了出来，现在连28纳米到10纳米光刻机配套的双工件台也是研制出来，并且进行了大量的测试验证。
经过这么几轮产品的技术迭代，瑞星科技公司公司的光刻机其实在05年到07年间推出的产品整体性能就全面上来了。
尤其是这几年华兴科技集团公司的众多的技术成果开始涌现，再次将瑞星科技公司的产品技术推到了一个更高的高度。
瑞星科技公司公司现在光刻机产品线也是十分丰富，低端的产品主要还是以i线光刻光源为主，用来加工非关键性和比较大的电路结构，也能为45纳米量产提供精确的套刻，主要用来加工存储芯片、图像传感器、微机械芯片等大量芯片。
中高端光刻机产品主要是以氟化氪和氟化氩光源设备为主，这些设备主要是用来用来制造最小和中等尺寸的芯片电路结构，这种更短的波长能刻印40以下的纳米电路结构。
一般而言，芯片的掩模层数最多达30或40层，因此中晶微在内的这些芯片制造商
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